关于国产EUV光刻机，ASML高管正式表态，网友：等着被打脸吧
关于国产EUV光刻机，ASML高管正式表态，网友：等着被打脸吧 对于当今科技行业而言，芯片是重中之重，不管是手机、电脑还是汽车...
对于当今科技行业而言，芯片是重中之重，不管是手机、电脑还是汽车，只要是智能电子设备，几乎都离不开芯片的支撑。所以芯片的重要性不言而喻，而华为也是国产自研芯片的骄傲之一，旗下的海思半导体不断的进步和升级，最终在麒麟9000的时候实现了对高通的领先。
华为遭受阻碍，台积电也开始泼冷水
但也正是因为华为在多项核心技术方面都有进步，最终也导致华为被各种规则针对和限制，多项业务停滞不前。所以在这种情况下，自研芯片和自主生产芯片则成了我国未来的发展重点。
不过让很多人没有料到的是，台积电创始人张忠谋却直言表示，中国基本造不出高端芯片。言下之意还是需要台积电的生产和帮助。这句话一出也引起了热烈的讨论，不少人认为张忠谋小看了我国的决心和毅力。
对于EUV光刻机，ASML正式表态
而近日，光刻机巨头ASML对于光刻机问题也发表了自己的看法。ASML高管明确表示，中国不太可能造出高端的EUV光刻机，但也绝对不是不可能。
其实早在很久之前ASML就曾说过类似的话，当时ASML表示，就算给我们图纸，我们也造不出EUV光刻机。并不是EUV光刻机的图纸我们看不懂原理、看不懂技术，而是即便看懂了内部的构造原理，也基本招不到零部件的供应商。因为一台尖端的EUV光刻机内部拥有数十万个零件，其中尖端的核心零件需要全球各地的企业顶尖巨头供应，光是整合这些供应商就是一件几乎无法实现的事情。
尤其是在如今这种芯片环境之下，ASML生产的EUV光刻机当中还含有不少美企核心技术，这些企业更不可能直接供应我国。甚至很多顶尖供应商也都有ASML的股份，所以我们想整合这些供应商，难度可想而知。
其实除了强大的供应链整合能力以外，自主核心技术也是同样重要的一部分，比如沉浸式光刻技术，ASML也是一种都在不断的烧钱研发，才有如今的成绩。而我国在这方面本身起步就比较晚，再加上“汉芯”事件的出现，更是拖了国产半导体发展的后腿，导致如今我国在半导体技术上与欧美国家有着很大差距。
所以从这些角度来看，ASML高管说的话似乎颇有道理，尽管目前我国在DUV光刻机上有一定的成绩，但是距离EUV光刻机其实还遥遥无期，再加上目前芯片各项工艺技术几乎逼近了极限，我国想用目前行业中现有的技术去追赶ASML显然不太可能。
网友：等着被打脸吧
但在光刻机方面我国仍然会不断尝试，而最有可能实现突破和反超的机会则是找到了新技术实现替代。只不过这种机会是可望而不可求的，所以在高端光刻机这条路上，我们只能说任重而道远，不仅仅需要科技人员的不断研发，更是要不断的吸引半导体人才，坚持和创新才是突破难关的关键所在。
此前也有很多尖端技术被认为我国造不出来，但结果都被一一打脸，所以这次关于EUV光刻机不少网友也表示，ASML也等着被打脸吧。