事关EUV光刻机自由出货时间,外媒给出最新预测

事关EUV光刻机自由出货时间,外媒给出最新预测 ASML正式发布了2021年财报数据,除了靓丽的营收和净利润数据外,ASML还...

事关EUV光刻机自由出货时间,外媒给出最新预测

ASML正式发布了2021年财报数据,除了靓丽的营收和净利润数据外,ASML还官宣了新款EUV光刻机。

据悉,ASML一次性推出了两款新型EUV光刻机,其NA值均是0.55,相比现有型号的EUV光刻机,其NA明显提升,毕竟,老款EUV光刻机的NA值为0.33。

另外,新款EUV光刻机采用拥有更高的NA值,就意味着其拥有更高的曝光精度,能够进行更小晶圆的生产制造,关键是效率也大幅度提升,每小时曝光晶圆200片以上。

而现有型号的EUV光刻机,其每小时的晶圆曝光量为160片左右。

最主要的是,其中一款新型号的EUV光刻机已经交付给了英特尔,而另外一款也有5套订单了。

也就是说,ASML已经具备了出货更先进EUV光刻机的能力。

事关EUV光刻机自由出货时间,外媒给出最新预测

ASML官宣新款EUV光刻机后,外媒就给出EUV光刻机自由时间的最新预测,2年内现有EUV光刻机可自由出货。外媒如此肯定,也给出了以下几点原因。

首先,EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。

EUV光刻机出货后,ASML方面就表示,DUV光刻机在一般情况下是可以自由出货的,除了在美生产制造的DUV光刻机。

2021年ASML就实现了DUV光刻机等设备自由出货,并直接与ASML签订了价值11亿美元的采购协议。

也就是说,新一代光刻机出现后,老款光刻机很快就实现了自由出货,DUV光刻机就是例子。如今,新款EUV光刻机已经交付,老款也会在2年内自由出货。

其次,ASML正在加速EUV光刻机普及。

EUV光刻机是生产制造7nm以下芯片的必要设备,再加上,越来越多的储存芯片厂商也开始用EUV工艺。

于是,ASML明确表示要在2025年实现EUV光刻机使用达到60%。

要知道,目前EUV光刻机的出货量不高,2021年仅为42台,占ASML全年光刻机出货量的1/7。

另外,全球还有三家企业可以生产制造光刻机,这意味着ASML要在2025年实现了EUV光刻机的安装使用率高达60%,其必然要实现自由出货。

数据显示,全球EUV光刻机的安装量应该在140台,这样的基数实在太少了,要想实现60%的使用率,自由出货和提升产能是必不可少的。

再加上,中国市场是巨大的,三星、SK海力士都在此有大量的工厂,这些工厂也是需要EUV光刻机。

但由于规则被修改,EUV光刻机不能出货安装到外企中国分厂,这意味着ASML只有实现EUV光刻机自由出货,才能够解决问题。

最后,压力让ASML不得不快速实现EUV光刻机自由出货。

EUV光刻机原先是生产制造7nm以下芯片的必要设备,但如今可不再是唯一设备了。

因为佳能、铠侠科技等联合研发了全新的NIL工艺,目前已经用该工艺量产了15nm的芯片,预计在2025年用NIL工艺量产5nm芯片。

另外,NIL不仅能够降低耗电量,也能够降低设备采购成本,关键是,佳能、铠侠等有意在全球范围内推广该工艺。

还有就是,台积电也明确表示,DUV光刻机可以量产7nm芯片,也可以量产5nm芯片,只不过工艺更复杂一些,成本也高一点。

这两个消息让ASML压力很大,尤其全新的NIL工艺,一旦在全球范围内推广,届时EUV光刻机的市场必然会缩小。

因为NIL工艺相比EUV工艺不仅能节约的电耗成本,还有EUV光刻机成本,这两点就能够大大降低5nm等芯片的生产制造成本。

为了市场,ASML自然要在NIL工艺之前实现EUV光刻机普及,否则,影响就大了。所以才说事关EUV光刻机自由出货时间,外媒给出最新预测。

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